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공조설비
PFCs treatment In Semiconductor & Display Manufacturing
반도체/디스플레이 제조 공정에서 배출되는 온실가스 또는 유해가스를 처리하는 장치이다. 고온Plasma + Wet 처리 장치로 높은 분해제거 효율과 낮은 전력 소비량, 컴팩트한 사이즈로 설치가 용이하다. CVD 및 Etch공정에 사용한다.
- Process Description
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특징 . PFCs (온실가스) 처리효율 매우 높음
. 아크가 회전형으로 발생
. 전극 식각이 골고루 진행됨 → 반응기 챔버 수명 증가
. 처리 가스와의 접촉 면적 넓음 → 가스처리 효율 증가
. 투자비 절감 효과, 유지비 절감 효과, 적은 설치 면적
사이즈 . 200 LPM : 1000X1000X1500H 이하
. 400 LPM : 1500X1000X1500H 이하
. 600 LPM : 2000X1000X1500H 이하
인증 . SEMI
. CE 인증
. S-Mark
처리효율 . CF4 90% 이상
. SF6 99% 이상
. NF3 99% 이상
- Application
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반도체 제조공장, 디스플레이 제조공장
석유, 화학 제품 제조
자동차, 조선, 철강, 플랜트
신소재 제조, 가공
도장 공정, 도료 제조
상하수, 분뇨, 악취 처리
인쇄, 잉크 제조
플라스틱, 합성고무 수지 제조
합판 및 가구 공장
의약품 제조
식품가공, 바이오 산업
금속, 금형, 전선 제조
기타 VOCs, 악취 발생 사업장
광물산업, 제분공장, 시멘트 공장
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